Na rynku mamy wielu różnych producentów półprzewodników, a największe i najnowocześniejsze firmy to TSMC (Tajwan), Samsung (Korea Południowa) oraz Intel (USA). Wszystkie z nich korzystają jednak z zaawansowanych maszyn EUV jednego producent - ASML, który pochodzi z Europy.
Amerykanom udało się jednak jakiś czas temu przekonać Holendrów do nałożenia na Chińczyków "kontroli eksportowych". Innymi słowy odcięcia Chin od maszyn ASML. Wszystko w celu ograniczenia możliwości na rynku układów do pracy z AI, które mogłyby zostać wykorzystane w celach wojskowych.
Jak donosi Associated Press, Xi Jinping oraz Mark Rutte spotkali się oficjalnie w tej sprawie. To właśnie wtedy sekretarz generalny Komunistycznej Partii Chin powiedział podobno premierowi Królestwa Niderlandów, że "próby ograniczenia dostępu Chin do technologii nie powstrzymają rozwoju naszego kraju".
W rzeczywistości jest to mocny cios dla chińskich firm takich jak SMIC czy YMTC. Oczywiście Chińczycy dysponują już pewną pulą maszyn EUV, ale brak możliwości nabycia kolejnych ogranicza ich moce produkcyjne i mocno spowalnia rozwój nowych litografii. Nie wspominając o ewentualnych awariach w przyszłości.
Chiny bardzo potrzebują rodzimego sprzętu litograficznego i są czynione ku temu pewne postępy. Wspomnieć można chociażby SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), które w zeszłym roku wprowadziło swoje pierwsze sprzęty obsługujące 28 nm. Nie jest jednak jasne czy Chińczycy mogą produkować takie maszyny w dużych ilościach. Dodatkowo to na chwilę obecną już mocno przestarzała technologia.
Maszyny ASML pozwalają na pracę w litografii 14 nm i nowszej. TSMC na ich bazie oferuje proces produkcji 7 i 4 nm. Co prawda współpraca SMIC i Huawei zaowocowała układami 7 nm do smartfonów, a firmy zapowiedziały prace nad chipami w 5 nm, ale wszystko to opiera się na posiadanym już sprzęcie DUV od Holendrów.
Zobacz: Tak wygląda Intel Lunar Lake. Znamy specyfikację
Zobacz: Hit dla graczy. Świetny monitor kilkaset złotych taniej
Źródło zdjęć: Xinhua News Agency, SMIC
Źródło tekstu: Associated Press, oprac. własne
