Nie jest żadną tajemnicą, że Stany Zjednoczone i Chiny prowadzą od dłuższego czasu wojnę handlową. Oba mocarstwa co i rusz wymieniają się kolejnymi sankcjami. Jednak to Wielki Brat ma tutaj zdecydowanie więcej do powiedzenia jeśli chodzi o nowe technologie, a to one są kluczowe w dobie sztucznej inteligencji.
Wygląda jednak na to, że dojdzie do pewnych zmian. Rząd Holandii przejmie kontrolę nad licencjonowaniem wybranych maszyn produkowanych przez ASML, które wykorzystywane są przy tworzeniu układów półprzewodnikowych. Do tej pory leżało to w gestii rządu USA ze względu na amerykańskie patenty.
Mowa o Twinscan NXT1970i oraz 1980i, czyli starszych narzędziach DUV z laserem argonowo-fluorkowym (ArF) o rozdzielczości 38 nm. Nadają się one do przetwarzania wafli przy użyciu litografii 7 i 5 nm a potencjalnie nawet 3 nm z wykorzystaniem techniki multi-patterningu.
Dyrektor generalny ASML, Christophe Fouquet, podkreśla jednak, że chociaż jest to technicznie możliwe, to proces jest wysoce nieefektywny. Prowadzi to do niskiego uzysku, a tym samym wysokich kosztów produkcji. Mogłoby to tłumaczyć małą liczbę chipów w nowszych litografiach, którymi chwalił się chiński SMIC i Huawei.
Czy zmiana organu zarządzającego licencjonowaniem doprowadzi do łatwiejszego dostępu do maszyn dla Chińczyków? Raczej nie. Sceptycznie nastawieni są do tego nie tylko analitycy branżowi, ale i samo ASML.
Zobacz: AMD Ryzen 5 7600X3D przetestowany. Czy to najlepszy procesor do gier?
Zobacz: ASUS ma nowe karty graficzne. Można wejść na minę
Źródło zdjęć: ASML
Źródło tekstu: Reuters, oprac. własne
